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產品中心
產品型號：D700MG
更新時間：2025-04-07
廠商性質：代理商
訪問量：248
服務熱線
| 品牌 | HORIBA/堀場 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產品種類 | 差壓式 | 介質分類 | 氣體 |
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環保,食品/農產品,化工,電子/電池,汽車及零部件 |
| 動態范圍 | 2 SCCM 起 | 支持氣體 | 支持多種氣體及單位（sccm ~ slm） |
| 控制精度 | ±1% S.P. | 響應時間 | ≤ 100 ms |
| 通信接口 | DeviceNet / PROFIBUS / EtherCAT 等 | 使用溫度 | 15°C ~ 60°C |
HORIBA D700MG 是一款高響應壓力非敏感質量流量控制器，專為半導體及相關行業中對高精度、快響應和耐腐蝕性有嚴格要求的氣體輸送工藝而開發。產品具備優秀的控制性能及自診斷能力，適用于刻蝕、沉積等關鍵制程。
超快響應性能
D700MG 實現了小于 100 ms 的響應時間（符合 SEMI E17-1011 標準），顯著提升系統動態性能，減少氣體滯后。
壓力擾動不敏感設計
內部結構與算法支持壓力擾動補償，即使在進出口壓力波動（≤ ±70 kPa/s）時也能保持穩定流量。
小流量控制能力出眾
支持 Bin101 至 Bin105 流量等級，可用于 2 SCCM 起的小流量精密控制（2 SCCM 以下不保證精度）。
智能狀態監控功能
內置診斷系統，可記錄：
壓力和流量調零計數
閥門驅動變化次數
最大/最小流量和壓力變化 實現預防性維護和遠程故障預警。
增強的閥門關閉性能與耐腐蝕性
采用 PFA（全氟烷氧基）噴嘴結構，有效抑制顆粒產生，提高化學兼容性與系統純凈度。
半導體刻蝕工藝（Etching）
原子層沉積（ALD）
化學氣相沉積（CVD）
封裝及材料氣氛控制
OLED 顯示面板制造
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